普泰克制冷設(shè)備
專注于半導(dǎo)體行業(yè)溫控
服務(wù)熱線：15214387784
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產(chǎn)品分類
普泰克 光刻機(jī)溫控系統(tǒng)，以及極紫外光刻（EUV）等前沿技術(shù)的加速應(yīng)用，芯片制造對工藝精度的要求達(dá)到高度。
普泰克 光刻機(jī)溫控設(shè)備，是一款專為半導(dǎo)體光刻核心制程量身定制的精密熱管理裝備。在優(yōu)良的光刻工藝中，光源、光學(xué)鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感，微小的熱變形或折射率變化均可能導(dǎo)致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 光刻機(jī)腔體溫控，該溫控系統(tǒng)聚焦于光刻機(jī)腔體對溫度穩(wěn)定性、均溫性及潔凈度的嚴(yán)苛要求，致力于提供持續(xù)、平穩(wěn)、高精度的恒溫控制環(huán)境，力求保障光刻工藝的良率與可靠性，是優(yōu)良光刻裝備中的核心配套系統(tǒng)。
普泰克 光刻機(jī)高精度溫控，是一款專為半導(dǎo)體光刻工藝量身定制的精密熱管理裝備。在光刻制程中，光學(xué)鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感，微小的熱變形均可能導(dǎo)致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 涂膠顯影機(jī)溫控，涂膠顯影（Track）工藝是芯片制造中極為關(guān)鍵的一環(huán)，其內(nèi)部的軟烤（Soft Bake）與硬烤（Post Exposure Bake, PEB）等工序?qū)囟鹊木鶆蛐耘c穩(wěn)定性要求。
普泰克 Implant氣體降溫系統(tǒng)，在Implant（離子注入）等核心前道工藝中，高能離子束轟擊產(chǎn)生的瞬時高熱負(fù)荷對晶圓表面的熱管理提出了更為嚴(yán)苛的要求。
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